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锦州鑫祺真空设备有限公司
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我公司是专业生产磁控溅射镀膜设备的公司,尤其是专业生产用于镀制电阻的磁控溅射镀膜设备。我公司根据电阻的成膜特点及工艺特性，对电阻镀膜机进行科学改进，可镀制国际上最一流的电阻黑棒。我公司也是国内唯一一家专业生产磁控源的公司，利用我公司磁控源，不仅提高了电阻产品质量，也节省了大量的靶材费用。
利用我公司设备及磁控源镀制的电阻膜，经有关电阻行业检验证明，其电气性能都优于美国TRC2020、国产JPG型设备镀制的电阻膜，尤其是长期稳定性更为出色。
1.利用率为50%~55%靶材高利用率磁控源。
该磁控源靶材利用率比美国TRC2020、国产JPG型设备所配磁控源利用率提高了2.5倍。
2.可调型磁控源。
我公司可调型磁控源可在不拆卸磁控源的情况下，自由改变磁场形状，它可以在平衡与非平衡之间任意调节，是平衡磁控源与非平衡磁控源的结合体。它还可以自由控制离子对正在生长膜层的轰击，这一点对镀膜是非常重要的。
可调型磁控源通过手动旋扭来调节磁场强度和形状，可调范围很大，可在工作前根据镀膜要求调节到最佳效果。
由于该磁控源可自由调节平衡与非平衡的程度，所以该磁控源镀制膜层结构远远优于固定结构的磁控源镀制的膜层。利用该磁控源可以更好的控制膜层。
3.我公司SJG-75型滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜机已经申请国家专利，其主要特点是：1.靶材利用率高：此种设备配有靶材高利用率磁控源；2.采用滚落循环送料方式，使电阻基体无反复摩擦，消除“球磨机”现象；3.电阻基体温升可控。本机装有水冷装置，增加了散热效果，并且采用滚落循环送料，抑制了摩擦生热，所以电阻基体温升容易控制，使电阻薄膜的结晶更加细化；4.电阻基体可加偏压：本机可在电阻基体施加偏压，增加了镀膜工艺的灵活性，使薄膜的结晶和结构更易于控制，从而改善薄膜的电气特性；5.适用于超高阻电阻的镀膜：本机可降低高阻膜的电阻率，从而增加高阻膜膜层厚度，使其电气性能更加出色；6.电阻基体镀膜时间短：本机采用双阴极磁控溅射，提高了单位时间的沉积速率，更易于形成连续均匀的膜层，既节省了时间，又节约了能源，这一点上更适用于超低阻电阻的镀膜。
4.我公司现生产片装电阻镀膜机
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